淮南千级手术室净化服务周到示例

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（1）温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5％。    （2）新风量大。由于这类车间内，人员比较多，可根据以下数值应取下列的至大值：非单向流洁净室总风量的10—30％；补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量；目前级别较高的当属航天航空的航空仓，基本是属于1级，属于特殊领域，面积相对较小。 另外对级别要求较高的是生化实验室和高精纳米材料生产车间，物联网芯片的发展将是未来需求的一大方向。 随着电子元器件向微小化方向发展，液晶面板已经升级至*八代，行业需求非常巨大。

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保持室内每人每小时的新鲜空气量≥40m3/h。   （3）送风量大。为了满足无尘车间内的洁净度及温湿度平衡，需要较大的风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300X2.具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.

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3、一般在使用十八个月后当风机工作电压调整**点时，仍不能达到理想之风速时，则说明空气过滤器积尘过多（滤料上滤孔已基本被堵，要及时更新），一般空气过滤器的使用期限为十八个月。  4、更换空气过滤器时，应注意型号规格尺寸的正确（原生产厂家配置），按箭头风向装置，并应注意过滤器的周边密封无渗漏现象发生相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35-45%。

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因此这种情况下不仅有流层之间因紊流流动而发生的掺混，而且还有全室范围内的大的回流、旋涡所发生的掺混。 单向流洁净室 单向流洁净室一般有两种类型，即水平流和垂直流。在水平流系统中，气流是从一面墙流向另一面墙。在垂直流系统中，气流是从吊顶流向地面。2.4 手术室内空气清新、爽洁，工作环境舒适。 2.5 层流手术室，一般情况下*使用物理或化学方法进行消毒，既节省劳动，又免除了不良气影响。 2.6 院内感染率（尤其是手术和烧伤感染率）大大降低。

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由于欧美手术室洁净标准与环境存在细微差别，常规的国际标准和国内区域行业标准都普遍难于确保手术室净化的长期稳定(一般只能3-10年重建、低档工程1年即需要翻新)，所以在工程质量方面出现了明显的档次划分。如果不进行加热是不可行的。 在加湿问题上还有一个应注意的问题就是空调器内空气流动带水的问题。有的工程中由于加湿的带水问题没有处理好，结果后面的中效过滤器甚至过滤器都被携带的水打湿了。对于干蒸汽加湿器也要注意蒸汽管和凝结水管的坡度和坡向问题，要使凝结水迅速地排到空调器外。

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